在微電子行業(yè)中，對硅片進行擴散需要用到硼或者磷源，離子注入是8〃及以上尺寸硅片最常用的方式。液態(tài)或者氣態(tài)源廣泛用在均勻性要求不高的工藝中，而固態(tài)擴散源是一種高要求擴散的優(yōu)良的解決方案。

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圣戈班從上世紀70年代開始開發(fā)固態(tài)源工藝，目前提供全方位的產品和技術支持。PDSR是Planar Diffusion Sources (平面擴散源）的商標。

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PDS固態(tài)源在世界范圍內有非常多的商業(yè)量產的實績，在中國早期有非常多的工程師了解這個工藝。由于離子注入和液態(tài)氣態(tài)有非常多的從業(yè)者從而導致整個工藝為行業(yè)所熟悉，高端的會選用離子注入，低端的會選擇液態(tài)氣態(tài)。

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目前由于以下三點，PDS固態(tài)源收到了越來越多的詢盤：

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1、國家環(huán)保要求，液態(tài)氣態(tài)源的生產會面臨一定的環(huán)保風險；

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2、MEMS器件的生產擴張，高濃度擴散需要熱擴散工藝；

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3、中高品位產品的需求增長。

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PDS固態(tài)源的優(yōu)勢

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1、首先是均勻性良好，一般使用者反饋片內和片間均勻性可以控制到1%~2%。且成品缺陷程度低；

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2、其次是PDS固態(tài)源無毒無害，相較于液態(tài)或者氣態(tài)源，PDS的設備毒害防護要求很低。從液態(tài)或者氣態(tài)源改造為固態(tài)源僅需要修改氣路，添置專用石英舟等簡單改造即可使用；

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3、使用固態(tài)源產生的參雜劑封閉在硅片周圍，不會附著在設備管道或者門上，易于設備清理和維護；

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4、可以簡單通過擴散溫度，時間和氣流來控制需要的目標產品，不連續(xù)生產的時候也方便取出和保存；

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5、通過工藝中間的膜厚測量可以預判生產品質；

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6、跟離子注入相比，固態(tài)源一次擴散一個舟可以擴散25片，效率很高。

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PDS固態(tài)源的適用性

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1、PDS固態(tài)源目前可以做到的極限尺寸為8〃；

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2、只能適用于水平爐管而不能用于垂直爐管；

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3、原來液態(tài)氣態(tài)擴散路需要進行氣路改造才能使用，過程需要通氮氣；

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4、需要專用的石英舟配合。

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圣戈班從事該產品的生產快50年，過去有自己的擴散爐設備，在一次又一次的售前售后技術支持中，累計大量的實際生產數(shù)據以及問題解決的方案。

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